ナノメートル単位の深さ/高さ分解能で、マイクロ・エレクトロニクスや機械システム、マイクロ・レンズアレイ、マイクロ・オプティクス、マイクロ微細加工プロセスの検査および特性化のための、単純でコンパクト、パワフルな顕微鏡検査システムです。この装置の新しい特徴は、非接触モードにおけるサンプルの全面、3Dイメージングおよび測定です。これは環境上の振動や位相歪みによる影響は受けません。ソフトウェアは、用途ごとにカスタマイズ可能です。研究所または産業の環境に適しています。 ホロスコピーは、ディジタル・ホログラフィー、全面フーリエ領域光コヒーレンス・トモグラフィーを組み合わせるイメージング・アプローチです。サンプルによって散乱した光と定義された参照波の間の干渉縞は、ディジタルで記録されます。数的な再焦点化が焦点深度の限界を克服するので、記録された干渉縞を数的に処理することによって、サンプルの後方散乱フィールドは全体の測定深度以上の回折限界の方位分解能で再構成されます。画像記録のための十分なセンサー・エリアを効率的に使用するインラインのディジタル・ホロスコピーは、ディジタル・ホロスコピーの好ましい選択になっています。
型名 | CDH-C | CDH-D | ステージ付CDH |
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視野 | 4 mm | 2 mm | ユーザー定義 |
横方向分解能 | 10 μm | 6 μm | システムに依存 |
軸方向分解能 | 10 nm | 10 nm | 10 nm |
ダイナミック特性化 | 1MHz振動周波数 | 1MHz振動周波数 | 1MHz振動周波数 |
変形感度 | 1 nm | 1 nm | 1 nm |
寸法 (L×W×H) | 55 mmx75mmx125mm | 55 mmx75mmx125mm | ステージ重量に依存 |
重量 | 400gm | 400gm | ステージ重量に依存 |
要求試料 | サンプル表面< 300nmの良好な反射サンプル表面 |
ユーザー・フレンドリー
リアルタイム:
実際のホログラムを捕らえて、リアルタイムで振幅、位相および3Dイメージを再構築
量的位相解析アンラッピング、ライン・プロファイル解析、カラーマップ。
サンプルおよび高さ深さ分析の3Dプロット
静的および動的干渉分析
MEMS/マイクロシステム特性化
Siウエハの特性化
マイクロ力学